박막 소재

나노미터 단위의 박막, LT메탈의 소재 기술로 완성됩니다.

From display panels to AI semiconductor chips — precision thin-film materials by LT Metal.

소재의 특성이 디스플레이의 성능을 가릅니다.

LT메탈은 그 정밀함을

매일 한 단계씩 높여갑니다.

박막 소재는 스퍼터링(Sputtering) 또는 증착(Evaporation) 공정을 통해 수 나노미터에서 수 마이크로미터 두께의 기능성 금속층을 형성하는 데 사용됩니다.
타겟 소재의 순도, 밀도, 결정 구조, 조성 균일성이 박막의 전기적·광학적 특성에 직접적인 영향을 미칩니다. 반도체, 디스플레이, 태양전지, 의료기기 등 다양한 첨단 산업에서 박막 소재의 품질은 제품 성능과 제조 안정성을 결정하는 핵심 요소입니다.

LT메탈은 ITO Target을 자체 분말 제조 기술로 국산화를 실현한 기업이며, 다년 간 쌓아온 금속합금 기술을 기반으로 세라믹 타겟 및 금속타겟의 일관된 품질과 안정적인 성능을 구현하고 있습니다.

산업군 선택 가이드

디스플레이 vs. 반도체 vs. 태양광 — 산업군별 최적 소재

산업군 요구 특성 LT메탈 공급 소재 주요 응용
디스플레이 대면적 균일, Low Particle
고순도, 고밀도, Low Gas 함량
저저항, 식각 접합성·고밀착력
고투과율, 고반사율
Pure 금속 및 합금 타겟
세라믹 타겟
하이브리드 타겟
TFT Gate, S/D 배선
Buffer, 확산방지, Capping Layer
Active Layer, 투명전극
OLED Anode / Cathode
저반사막, 고반사막
연구 개발용
반도체 고순도, Low Gas 함량
대면적 균일, Low Particle
결정립 제어
Pure 금속 및 합금 타겟 배선, Barrier, 확산방지
Bumping
EMI-Shield
연구 개발용
태양광 대면적 균일, Low Particle
고순도, 고밀도
고이동도, 저저항, 고투과율
세라믹 타겟
Pure 금속 타겟
결정질 Si
TCO층
전극 및 시드 Layer

공정 선택 가이드

스퍼터링 vs. 증착 — 공정별 최적 소재

공정 방식 요구 특성 LT메탈 공급 소재 주요 응용
스퍼터링 (Sputtering) 대면적 균일, Low Particle
고순도, 고밀도
저저항, 식각 접합성·고밀착력
고투과율, 고반사율
Pure 금속 및 합금 타겟
세라믹 타겟
하이브리드 타겟
TFT Gate, S/D 배선
Buffer, 확산방지, Capping Layer
Active Layer, 투명전극
OLED Anode / Cathode
저반사막, 고반사막
증착 (Evaporation) 고순도, Low Gas 함량 Ag(Disk, Pellet, Granule)
Pt Pellet
OLED Cathode
연구 개발용

스퍼터링 타겟

제품군 제품 순도 조성 적용분야
디스플레이 Ceramic

(Planar, Rotary)

ITO 4N 이상 1/3/5/7/10% SnO2
(기타 조성 별도문의)
투명전극, 태양광 외
IGZO 4N 이상 1:1:1
(기타 조성 별도문의)
TFT 반도체
IZO 4N 이상 10%
(기타 조성 별도문의)
투명전극, 태양광 외
ITZO 4N 이상 별도문의 TFT 반도체
Mo Oxide계 3N5 이상 별도문의 저반사
Metal

(Planar, Rotary)

Ag 4N5 이상 Pure & Alloy Anode 외
Cu 4N5 이상 Pure 전극배선
Mo 3N5 이상 Pure & Alloy 전극배선
Al 4N 이상 Pure & Alloy 전극배선
Ti 3N5 이상 Pure & Alloy 전극배선
Cr 4N 이상 Pure & Alloy Photo mask
Hybrid

(Ceramic+Metal)

WOX 4N 이상 별도문의 저반사
반도체 Metal

(Planar, Rotary)

Ta 4N5 이상 Pure 확산방지막
CuMn 6N 이상 별도문의 반도체 배선
Au 4N5 이상 Pure Bumping
Cu 4N5 이상 Pure EMI-Shield
SUS 3N 이상 SUS304L, SUS316L EMI-Shield
Ni 3N5 이상 Pure 후공정
Metal Pt 4N 이상 Pure 웨이퍼 증착

증착

제품군 제품 순도 조성 적용분야
증착재 Ag Disk 4N 이상 Pure Ag 대형 OLED 패널
Granule 4N 이상 Pure Ag 중소형 OLED 패널
Pellet 4N 이상 Pure Ag 소형 OLED 패널
Pt Pellet 3N5, 4N상 Pure Pt 전극 배선

왜 LT메탈인가

세 가지 설계 역량

LT메탈이 글로벌 고객에게 선택받는 이유는 조성, 구조, 신뢰에 대한 설계 역량을 바탕으로 고객이 요구하는 성능과 품질을 구현할 수 있기 때문입니다.
이것이 LT메탈의 핵심 경쟁력입니다.

조성을 설계합니다

타겟 소재의 합금 조성과 불순물 수준이 박막의 전기적·광학적 특성을 직접 결정합니다. LT메탈은 고객의 증착 공정 조건(온도, 압력, 전력 밀도)을 분석하여 최적의 조성을 갖춘 타겟 소재를 설계합니다.

구조를 설계합니다

ITO Target을 포함한 기능성 타겟 소재의 분말을 자체 합성하는 원천 기술로, 입도 분포, 산소 함량, 소결 밀도를 처음부터 설계합니다. 파티클 발생과 이상 방전이 없는 타겟 구조를 보장합니다.

신뢰를 설계합니다

소재 공급에 그치지 않고 고객의 증착 공정에서 최적 성능이 발휘되도록 공정 조건 협의, 시제품 평가, 문제 발생 시 원인 분석까지 신뢰성 지원 체계를 설계합니다.

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