薄膜与镀膜材料
材料特性，决定显示性能。
在 LT金属，这份精密每天都更进一步。
薄膜材料通过溅射（Sputtering）或蒸镀（Evaporation）工艺，形成数纳米至数微米厚的功能性金属层。靶材的纯度、密度、晶体结构与成分均匀性，直接决定薄膜的电学与光学特性。在半导体、显示、太阳能电池、医疗器械等领域，薄膜材料的品质既决定产品性能，也决定制造的稳定性。 LT金属以自主粉体合成技术，实现了 ITO 靶材的韩国本土化生产。依托多年积累的金属合金技术，我们在陶瓷靶材与金属靶材上均实现了一致的品质与稳定的性能。
工艺选择指南
溅射 vs. 蒸镀 —— 各工艺的最优材料
| 工艺方式 | 适用条件 | LT金属供应材料 | 主要应用 |
|---|---|---|---|
| 溅射 | 大面积膜层均匀、附着力高 | 陶瓷靶材、高纯金属与贵金属靶材、混合靶材 | FPD、半导体布线、OLED 反射膜 |
| 蒸镀 | 高纯度、低氧含量 | 高纯度、低氧含量 Ag Disk、Pellet、Granule | OLED 面板、研发用 |
溅射靶材（Sputtering Target）
| 产品系列 | 产品 | 纯度（Purity） | 成分 | 应用领域 | |
|---|---|---|---|---|---|
| 显示 | Ceramic
(Planar, Rotary) |
ITO | 4N 以上 | 1/3/5/7/10% SnO2（其他成分另询） | 透明电极、太阳能等 |
| IGZO | 4N 以上 | 1:1:1（其他成分另询） | TFT 半导体 | ||
| IZO | 4N 以上 | 10%（其他成分另询） | 透明电极、太阳能等 | ||
| ITZO | 4N 以上 | 另询 | TFT 半导体 | ||
| Mo 氧化物系 | 3N5 以上 | 另询 | 低反射 | ||
| Metal
(Planar, Rotary) |
Ag | 4N5 以上 | Pure & Alloy | 阳极等 | |
| Cu | 4N5 以上 | Pure | 电极布线 | ||
| Mo | 3N5 以上 | Pure & Alloy | 电极布线 | ||
| Al | 4N 以上 | Pure & Alloy | 电极布线 | ||
| Ti | 3N5 以上 | Pure & Alloy | 电极布线 | ||
| Cr | 4N 以上 | Pure & Alloy | Photo mask | ||
| Hybrid
(Ceramic+Metal) |
WOX | 4N 以上 | 另询 | 低反射 | |
| 半导体 | Metal
(Planar, Rotary) |
Ta | 4N5 以上 | Pure | 扩散阻挡层 |
| CuMn | 6N（99.9999%）以上 | 另询 | 半导体布线 | ||
| Au | 4N5 以上 | Pure | Bumping | ||
| Cu | 4N5 以上 | Pure | EMI-Shield | ||
| SUS | 3N 以上 | SUS304L, SUS316L | EMI-Shield | ||
| Ni | 3N5 以上 | Pure | 后道工序 | ||
| Metal | Pt | 4N 以上 | Pure | 晶圆镀膜 |
蒸镀
| 产品系列 | 产品 | 纯度（Purity） | 成分 | 应用领域 | |
|---|---|---|---|---|---|
| 蒸镀材料 | Ag | Disk | 4N 以上 | Pure Ag | 大尺寸 OLED 面板 |
| Granule | 4N 以上 | Pure Ag | 中小尺寸 OLED 面板 | ||
| Pellet | 4N 以上 | Pure Ag | 小尺寸 OLED 面板 | ||
| Pt | Pellet | 3N5、4N 以上 | Pure Pt | 电极布线 |
产品构成
· 封装材料：+82-32-820-9694
· 薄膜材料：+82-32-820-9694
半导体用溅射靶材
供应 Ta·CuMn（扩散阻挡层）、Cu·SUS（EMI 屏蔽）、Au·Ni（凸点）靶材。
显示用溅射靶材
供应 ITO·IGZO（FPD、触控面板、太阳能电池）、ITZO·IGZO（OLED、氧化物 TFT）、金属（布线）、Ag 合金（OLED 反射膜）、Mo/W 系（低反射）靶材。
蒸镀材料
供应 Ag Disk、Ag Granule、Ag Pellet 及 Pt Pellet。
为何选择 LT金属
三大设计能力
全球客户选择 LT金属，是因为我们在成分、结构与可靠性上的设计能力，能够实现客户所要求的性能与质量。这正是 LT金属的核心竞争力。
我们设计成分。
靶材的合金成分与杂质水平，直接决定薄膜的电学与光学特性。LT金属分析客户的镀膜工艺条件 —— 温度、压力、功率密度 —— 并据此设计成分与之匹配的靶材。
我们设计结构。
我们以自主原创技术合成 ITO 等功能性靶材所需的粉体，从源头设计粒度分布、氧含量与烧结密度。由此形成的靶材结构，可抑制颗粒产生与异常放电。
我们设计可靠性。
我们不止于供应材料。围绕客户的镀膜工艺，我们设计一套可靠性支持体系：工艺条件协商、样品评价，以及问题发生时的原因分析。
